氢氟酸（HF）和二氧化硅（SiO2）在常温下可以发生反应，生成四氟化硅（SiF4）和水（H2O）。反应的化学方程式如下：
\[ SiO_2 + 4HF \rightarrow SiF_4 + 2H_2O \]
在这个反应中，氢氟酸是一种无色透明的液体，二氧化硅是一种白色固体，而生成的四氟化硅是一种无色、有毒、有刺激性臭味的气体。
反应条件为常温，氢氟酸是弱酸，常温下可以和硅反应，只不过反应速率很小，所以不容易察觉。但是提高温度时反应速度迅速增加。二氧化硅能跟氢氟酸反应，生成物是四氟化硅气体。
需要注意的是，如果氢氟酸浓度较大，生成的四氟化硅会形成氟硅酸（H2SiF6）。此外，加入浓硫酸或浓盐酸可以抑制氟硅酸的电离平衡，从而间接抑制氟硅酸的生成，得到更高的SiF4产率。
这个反应在工业上有着重要应用，例如在玻璃刻蚀和硅材料的加工中，氢氟酸常被用来溶解二氧化硅。
